在光電子、成像技術以及人工智能等前沿領域，微透鏡陣列加工工藝要求嚴苛，關乎性能優劣與應用拓展，以下從多方面剖析關鍵要點。
材料遴選是根基，需兼顧光學特質與機械穩定性。石英憑借超高透過率、低折射率溫度系數，成為紫外至近紅外波段理想選擇，能精準聚焦光線，減少色差干擾；聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）因良好塑形性、較輕質與適中折射率，適配紅外成像及輕量化需求場景，利于大規模制備。選定材料后，嚴格把控純度，微量雜質都可能散射光線、降低陣列均勻性。
精度把控貫穿加工全程，尺寸公差近乎“毫厘必究”。單顆微透鏡直徑偏差需控制在亞微米級，確保陣列排列緊密、間距均勻，否則光路紊亂，成像失真或耦合效率驟降；表面粗糙度同樣要求達納米級，光滑表面保障光線折射、反射遵循設計軌跡，減少散射損耗，這對加工設備分辨率、工藝穩定性提出高挑戰。
工藝環節環環相扣，光刻技術利用深紫外光刻，將設計圖案精準轉移至基底，分辨率可達百納米以下，勾勒微透鏡雛形輪廓；接著蝕刻工藝接力，干法蝕刻各向異性佳，能垂直刻蝕材料，保證透鏡側壁陡直，濕法蝕刻則靠化學溶液選擇性腐蝕，柔化邊緣或調整曲率，二者配合雕琢出理想曲面形態。熱熔成型亦關鍵，精確控制溫度、時間，讓材料在固態下流動重塑，修正曲率誤差，塑造高精度光學表面。
檢測環節原子力顯微鏡輕觸掃描，繪出三維表面輪廓，量化粗糙度、曲率半徑；光學檢測系統模擬實際光路，投射平行光，分析聚焦、衍射效果，實時反饋加工瑕疵，以便及時回爐返工。從材料甄選到精雕細琢，再到嚴苛檢測，微透鏡陣列加工步步為營，賦能科技邁向更高性能維度。
